SN200812043 高精密单面抛光机 -- 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所

SN200812043 高精密单面抛光机

发布时间：2015-01-19

发布时间：2015-01-19 | 文章来源： | 【大中小】 | 【打印】【关闭】

抛光机

编号： AP-380F

工艺类别：镀膜

所属单位：加工平台

管理员：陆建斌

状态：正常

价格： 320/60分钟

单位预约时间： 60(单位:分钟)

用途

对晶片实现抛光处理。|可应用材料：Si,GaAs,Inp,OSi,玻璃等| 表面粗糙度：1-50nm.

主要技术指标

公转:30rpm，自转:90rpm，OSC:30，抛光液滴速：3滴/s。

附件下载：

版权所有 © 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所备案序号：苏ICP备10220403号-2
地址：江苏省苏州市苏州工业园区若水路398号邮编：215123
Email：office@sinano.ac.cn