所属部门：印刷电子学 

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　　主要用途：磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率，从而实现高质量金、镍、钛、铝、ITO、氧化硅等薄膜制备。 

　　主要指标：3支￠100永磁靶（带挡板）一支￠50永磁靶；极限真空度：6×10-5 Pa；衬底可加热，室温～350℃；衬底可调速自转 

　　存放地：F0101