孙科伟，研究员，博士生导师。2013年本科毕业于苏州大学物理学专业，2018年获苏州大学物理学博士学位，师从迟力峰院士。2018年7月起在日本国立材料研究所从事博士后研究，2021年4月获聘日本学术振兴会（JSPS）外国人特别研究员，2022年10月起任日本国立材料研究所ICYS研究员。2025年12月加入苏州纳米所纳米真空互联实验站，任研究员。曾获日本学术振兴会（JSPS）外国人特别研究员奖励、日本国立材料研究所理事长奖等，入选国家海外高层次青年人才。

主要研究方向为表界面物理化学，致力于利用扫描隧道显微术研究固体表面分子体系的组装与反应，发展新型表面化学反应，实现原子级精准的低维碳纳米材料与功能结构的可控合成，为下一代纳米电子器件提供基础材料。迄今发表SCI论文35篇，其中以第一作者或通讯作者在 Nature Chemistry,  Science Advances,  J. Am. Chem. Soc., Angew. Chem. Int. Ed. (4篇), ACS Nano (3篇) 等国际高水平期刊发表论文19篇。现任 Nano-Micro Letters、Nanomaterials 等期刊青年编委，并受邀为 Nat. Commun., J. Am. Chem. Soc., ACS Nano,  JACS Au, Commun. Chem. 等期刊审稿。

1. 新型表面分子化学反应的开发

2. 原子级精准低维碳基纳米结构与量子分子磁体制备

3. 表面分子与纳米结构的物理化学性质研究（基于扫描隧道显微术）

招生信息： 

物理、化学、材料或相关交叉学科。