近期我国科研人员突破了原子级平整反铁磁金属单晶薄膜的关键制备技术，使超快速响应超高密度反铁磁随机存取存储器的研制成为可能，有望大幅提升手机、计算机等信息产品运行速度。该研究由北京航空航天大学材料学院磁性功能材料研究团队、华中科技大学物理学院、中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所加工平台合作完成，相关成果19日在国际学术期刊《自然》杂志上发表。　  

　　论文链接 　　新华社报道　

　　中科院苏州纳米所加工平台团队在此项技术突破中负责器件的微纳加工。众所周知，芯片加工技术是我国面临的关键“卡脖子”技术之一，加工平台团队致力于整合芯片技术创新资源，突破产业发展的微纳加工核心技术，探索形成长效稳定的产学研合作机制。加工平台（http://nff.sinano.ac.cn/）已建成国内功能齐全、工艺能力领先的集器件设计、工艺加工、测试、器件封装和设备研发于一体的多功能技术平台，拥有外延、光刻、化学气相沉积、物理气相沉积、刻蚀、离子注入、减薄、切割、封装、工艺量测及器件性能检测与失效分析等大型微纳加工设备300余台套，可满足微电子、光电子器件、微纳光机电系统、生物芯片和各种传感器的研发（2~6英寸）和小试（8英寸）需求。加工平台已与来自高校、科研院所、企业的科研团队建立了友好合作，开展联合技术攻关、共建研发基地/实验室，助力重大科研突破、加速产品开发和企业成长。加工平台目标是建成具有国际先进水平的、面向国内外开放的纳米科学研究和成果转化的公共技术服务中心。