近日，由印刷电子研究部崔铮研究员撰写的《微纳米加工技术及其应用》（第4版）由高等教育出版社出版。这是继崔铮研究员2005年撰写第1版以来该书的第三次再版。 

　　《微纳米加工技术及其应用》（第4版）全书67万字，全面介绍了微纳米加工各个技术门类的基础与最新进展，包括光学曝光技术，特别是集成电路芯片制造的光刻技术，例如浸没式曝光与深紫外（EUV）曝光技术；电子束曝光技术；聚焦离子束加工技术；扫描探针加工技术；微纳米尺度的复制技术，例如纳米压印；各种沉积法图形转移技术与增材制造技术，例如印刷加工技术；各种刻蚀法等减材制造技术；间接纳米加工技术与自组装纳米加工技术。该书还以专门一章介绍了微纳米加工技术在现代高新技术领域的应用，包括超大规模集成电路技术、纳米电子技术、光电子技术、高密度磁存储技术、微机电系统技术、生物芯片技术和纳米技术。通过应用实例说明了现代高新技术与微纳米加工技术不可分割的关系，并演示了如何灵活应用微纳米加工技术来推动这些领域的技术进步。 

　　本书跨越了过去15年微纳米加工技术的发展，全面涵盖从集成电路（IC）芯片到微电子机械（MEMS）芯片的加工技术，集微纳米加工的知识、信息、经验与技巧之精粹，在当前中国集成电路芯片技术受国外打压的大背景下，力求为培养中国微纳米加工技术人才，解决中国“芯片之痛”助力。 

　　崔铮研究员近期还在蔻享线上学术交流平台作了题为“推动芯片革命的微纳米加工技术”公开讲座，受到广泛欢迎。 （点此链接看讲座视频回放）

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