12月20日，苏州纳米所纳米真空互联实验站（Nano-X）成功举办了第十一期“科学讲堂”。本次讲堂特邀南开大学材料科学与工程学院/电子信息与光学工程学院罗锋教授作为主讲嘉宾，为大家带来了一场题为“同步辐射X射线技术在半导体材料表征与器件缺陷检测中的应用”的精彩专题讲座。本期“科学讲堂”由Nano-X主任张珽研究员主持，吸引了所内师生的热情参与。

同步辐射光源大科学装置技术在原位、元素分辨、时空分辨上具有独特优势，有望在半导体材料的表界面表征分析以及在先进制程器件的无损检测、后道工艺与器件失效分析上发挥独特的作用。讲座中罗锋教授详细介绍了层叠相干衍射成像技术、布拉格层叠相干衍射技术、X射线全场成像快速检测技术、关键尺寸小角X射线散射等相关技术在芯片三维成像、材料应力分析、表界面表征等方面的潜在技术应用。

本期“科学讲堂”在浓厚的学术氛围和热烈的讨论中圆满结束。

张珽研究员为罗锋教授授牌

现场热烈讨论

主讲人简介：

罗锋，男，现任南开大学材料科学与工程学院/电子信息与光学工程学院双聘讲席教授，先后入选欧盟玛丽居里学者、西班牙杰出青年基金、西班牙 I3 杰出教授、第十五批国家重大人才项目等。目前担任深圳综合粒子研究院科创委委员，上海光源用户委员会委员，中国感光学会光刻材料与技术专业委员会委员。研究方向包括未来芯片材料与器件表征技术；MEMS设计、器件可靠性、晶圆级器件加工与电路系统集成。